過程氣體分析儀

HPR-30過程氣體分析儀應(yīng)用：

· CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
· 真空涂覆/ 等離子蝕刻
· 濺射沉積
· 污染物研究
· 基本壓力辨別
· 泄漏探測(cè)/ 實(shí)質(zhì)上的泄漏/脫附分析
· 除氣/烘烤/泵效能
· 反應(yīng)室/過程氣體污染物

HPR-30過程氣體分析儀特點(diǎn)：

· 簡(jiǎn)潔的桌上型，移動(dòng)推車或控制臺(tái)架結(jié)構(gòu)
· Direct re-entrant流孔板，差式泵，以達(dá)到z適宜的靈敏度
· 連續(xù)取樣從1mbar至 10-4mbar.
· 高靈敏度（至5ppb），質(zhì)量數(shù)至1000amu
· 軟離子化技術(shù)，分析復(fù)雜有機(jī)物，或表觀MS研究
· 穩(wěn)定性好(24h之上，峰高變化小于±0.5%)
· MASsoft軟件控制，或由局域網(wǎng)進(jìn)行多個(gè)系統(tǒng)控制
· 氣動(dòng)閥自動(dòng)控制；出現(xiàn)電力不足或壓力過大等不安全狀況時(shí)可啟用手動(dòng)隔離裝置
· 自動(dòng)、同時(shí)數(shù)據(jù)取得、分析，實(shí)時(shí)顯示、報(bào)警。